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審定:無
翻譯:郭玉林(簡介並寄信)、程正喜(簡介並寄信)、呂尊實(簡介並寄信)、張燕均(簡介並寄信)
編輯:陳玉侖(簡介並寄信)


實驗 補充檔案 參考文獻
實驗 1: 積體電路 (IC)
Lab 1: Integrated Circuits (IC)
多閘極 MOSCAP製程概要(PDF)
Polygate MOSCAP Process Summary (PDF)
積體電路實驗報告說明 (PDF)
IC Lab Report Instructions (PDF)
實驗 2:微機電系統(MEMS)
Lab 2: Micro-Electro-Mechanical Systems (MEMS)
MEMS 第1課:後部(PDF)
MEMS Session 1: Backside (PDF)
Guo, Hang和Amit Lal. "Die-Level Characterization of Silicon-Nitride
Guo, Hang, and Amit Lal. "Die-Level Characterization of Silicon-Nitride
Membrane/Silicon Structures Using Resonant Ultrasonic Spectroscopy." 〈共諧超聲光譜下,氮化矽膜/矽結構的晶粒級特徵〉,Journal Of Microelectromechanical Systems 《微電機系統》12, 1 (2003年二月): 53-63.
Membrane/Silicon Structures Using Resonant Ultrasonic Spectroscopy." Journal Of Microelectromechanical Systems 12, 1 (Feb 2003): 53-63.
MEMS 第2課:氫氧化鉀(KOH) 蝕刻(PDF)
MEMS Session 2: KOH Etch (PDF)
Sekimoto, Misao, Hideo Yoshihara和Takashi OhKubo. "Silicon Nitride Single-layer X-ray Mask."〈氮化矽單層X光光罩〉,J. Vac. Sci. Technology 《真空科技期刊》21, 4 (1982/11-12月): 1017-1021.
Sekimoto, Misao, Hideo Yoshihara, and Takashi OhKubo. "Silicon Nitride Single-layer X-ray Mask." J. Vac. Sci. Technology 21, 4 (Nov-Dec 1982): 1017-1021.
MEMS 第3課: 測試(PDF)
MEMS Session 3: Test (PDF)
MEMS 光罩設計(PDF)
MEMS Mask Layout (PDF)
MEMS 實驗報告說明(PDF)
MEMS Lab Report Instructions (PDF)
實驗3: 微流體學
Lab 3: Microfluidics
微流體學實驗報告說明(PDF)
Microfluidics Lab Report Instructions (PDF)

 
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